沈阳腾鳌真空技术有限公司

真空退火炉

一、用途：该设备用于器件真空除气、退火及钎焊。 　　二、技术指标： 　　1.系统空载限真空度≤2×10-4Pa，（冷态）；工作真空度≤1×10-a（1400℃）； 　　2.分子泵启动正常工作30分钟后，真... ...

真空排气台

一、主要用途：本设备主要用于玻璃结构射线管的排气。 　　二、技术指标： 　　1.限真空：玻璃结构射线管内真空：5.0×10-7Pa；系统漏率：5.0×10-7PaL/S； 　　2.利用高频感应加热，实现对阴除气... ...

磁控溅射镀膜机

一、系统用途： 　　设备主要制备单层膜、多层膜和多组份的金属膜、合金膜、氧化物薄膜等。 　　二、技术指标：： 　　1.结构：一个主溅射室，一个为进样室； 　　2.主溅射室：限真空度6.7×10-8Pa，工作... ...

磁控溅射镀膜机

一、设备用途： 　　本设备为单室结构的多靶磁控溅射镀膜设备，可用于单质膜及多层功能膜、金属膜、半导体膜、介质膜等。 　　二、技术指标： 　　1.空室采用立式前开门结构，尺寸为：Φ700×H742（mm）... ...

复合镀膜机

一、 系统用途： 　　设备主要制备单层膜、多层膜和多组份的金属膜、合金膜、氧化物薄膜等。 　　二、技术指标： 　　1、采用双室结构：一个主溅射室（溅射镀膜室）；一个为样品室（样品取放）； 　　2、溅射室... ...

蒸发镀膜机

一、用途：保密。 　　二、技术指标： 　　1.蒸镀室限真空度：5×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；压升率：停泵关机12小时后真空度小于等于5Pa； 　　2.真空腔从大气到2×10-a时间小于3 0分... ...

光能谱仪

一、主要用途：保密。 　　二、技术指标： 　　1.谱仪真空3×10-a（探测器位置处），漏率小于1×10-7Pa.L/s（真空机组由甲方自行购置，乙方设计，系统气阻尽量小）； 　　2.滤片室、平面镜室、探... ...